薄膜非晶矽太陽電池相關主要專利分析

全球PV（太陽光發電）的熱潮促使薄膜a-Si太陽電池產業在過去2∼3年內創下超過30%的大幅成長，未來更可望繼續成長。但原料p-Si（多孔質矽）不足及能源轉換效率低落成為擴大銷售的阻礙，目前PV的設備成本是其他可再生能源的3∼4倍、化石燃料的6∼10倍。可能解決該問題的是能將矽用量降至最少的利用薄膜a-Si、CdTe、CIS/CIGS、彈性薄膜技術的太陽電池，其生產活動主要由日本、台灣、歐洲負責。

本報告書內容包括：薄膜非晶矽太陽電池技術之主要專利申請製造商別分類、電路板、穿透電極、金屬電極、吸收層、中間層、構造、雷射劃線、模組等各技術的專利動向分析。內容綱要摘記如下：

第1章 薄膜非晶矽太陽電池技術

• 薄膜非晶矽太陽電池的製造工程
• 同質接合及異質接合太陽電池（單一、串聯、並聯接合型）
• 彈性太陽電池及捲繞對位技術

第2章 分析標準及範圍

• 分析標準
• 最終採用資料的處理方法
• 技術分類

第3章 專利活動分析

• 整體專利活動
• 技術申請動向

第4章 企業別專利申請狀況

• 三洋電機
• 富士電機
• 夏普
• 日立
• 佳能
• 其他技術別申請成績
  • Kaneka
  • Panasonic
  • 產業技術綜合研究所
  • 三井東壓化學
  • 三菱重工

第5章 專利分析指標

• 概要
• TCT及SL分析
• 各國R&D動向
• 技術別市場性分析
• 申請企業別專利競爭力動向

第6章 詳細分析

• 分析概要
  • 範圍選擇標準
• 技術別詳細分析
  • 電路板技術的專利介紹
  • 穿透電極
  • 穿透電極技術的專利介紹
  • 金屬電極
  • 金屬電極技術的專利介紹
  • 吸收層
  • 吸收層技術的專利介紹
  • 中間層
  • 中間層技術的專利介紹
  • 構造
  • 構造技術的專利介紹
  • 雷射劃線及模組
  • 雷射劃線技術的專利介紹
  • 雷射模組技術的專利介紹
• 申請數佔前5大的企業詳細分析
  • 概況
  • 三洋電機
  • 佳能
  • Solarex
  • Amoco Enron Solar
  • 富士電機
• 主要企業的詳細分析（模組、設備）
  • 主要模組製造商的專利申請狀況
  • 夏普
  • Kaneka
  • 三菱重工
  • 富士電機系統
  • 三洋電機
• 主要設備製造商的專利申請狀況
  • Applied Materials
• 其他企業

第7章 結論

• 技術開發動向
• 技術開發展望