Press Release

光刻 (設備) 的全球市場預測 2020年:i-line、KrF、ArF Dry、ArFi、EUV

2015年12月14日

日商環球訊息有限公司開始販售市場調查報告「「Photolithography (Equipment) Market by Type (i-line, KrF, ArF Dry, ArFi, and EUV), Light Source (Mercury Lamp, Excimer Laser, Fluorine Laser, and Laser Produced Plasma), Wavelength, and Region - Forecast to 2020 (光刻 (設備) 的全球市場預測 2020年:i-line、KrF、ArF Dry、ArFi、EUV)」」(MarketsandMarkets發行)。

光刻設備市場,預計從2015年到2020年以4.3%的年複合成長率成長。該市場主要促進要素,是先進技術的發明。加上政府的支援及半導體產業的擴大等其他因素,也加速光刻設備市場成長。

本報告以全球光刻設備市場為主題,提供各設備類型、光源、波長及各地區的市場統計、市場主要促進要素、阻礙要素,及機會分析,及主要企業的詳細的競爭狀況分析等等、各主要企業簡介,為您概述為以下內容。

第1章 簡介

第2章 調查手法

第3章 摘要整理

第4章 重要考察

  • 光刻設備市場上富有魅力的成長機會
  • 光刻設備市場:各波長
  • 亞太地區的光刻設備市場
  • 美國結構最大的市場佔有率
  • 在光刻設備市場中EUV預計最急速成長

第5章 市場概要

  • 簡介
  • 市場區隔
  • 市場動態

第6章 產業趨勢

  • 簡介
  • 波特的五力分析

第7章 光刻設備市場:各來源

  • 簡介
  • 水銀燈
  • 準分子雷射
  • 氟雷射
  • 雷射產生等離子

第8章 光刻設備市場:各波長

  • 簡介
  • 370NM - 270NM 波長
  • 370NM - 170NM 波長
  • 170NM - 70NM 波長
  • 70NM - 1NM 波長

第9章 光刻設備市場:各類型

  • 簡介
  • DUV (深紫外線)
    • I-LINE
    • KRF
    • ARF DRY
    • ARFI
  • EUV (超紫外線)

第10章 光刻設備市場:各地區

  • 簡介
  • 北美
  • 歐洲
  • 亞太地區
  • 其他的地區 (ROW)

第11章 競爭情形

  • 概要
  • 市場佔有率分析
  • 競爭情形、趨勢

第12章 企業簡介 (概要、產品&服務、財務、策略與發展趨勢)

  • 簡介
  • ASML HOLDING N.V.
  • NIKON
  • 佳能
  • JEOL LTD.
  • NUFLARE TECHNOLOGY INC.
  • ULTRATECH, INC.
  • RUDOLPH TECHNOLOGIES, INC.
  • SUSS MICROTEC AG
  • NIL TECHNOLOGY
  • EV GROUP

第13章 附錄

圖表

光刻 (設備) 的全球市場預測 2020年:i-line、KrF、ArF Dry、ArFi、EUV
Photolithography (Equipment) Market by Type (i-line, KrF, ArF Dry, ArFi, and EUV), Light Source (Mercury Lamp, Excimer Laser, Fluorine Laser, and Laser Produced Plasma), Wavelength, and Region - Forecast to 2020
出版商: MarketsandMarkets
出版日期: 2015年12月04日
內容資訊: 128 Pages
http://www.giichinese.com.tw/report/mama346272-photolithography-equipment-market-by-type-i-line.html